專利名稱
半導體晶圓之銅墊處理方法
專利證號
I355037
專利國別
中華民國
發明人代表
盧威華、李英杰
專利技術摘要
本發明提供一種半導體晶圓之銅墊處理方法,其包含:提供一晶圓,其表面具有數個銅墊;在該晶圓之表面形成一金屬薄層,以電性連接所有該銅墊;在該金屬薄層上形成一錫層;形成一光阻層於該錫層上,並圖案化該光阻層,以形成數個開口裸露該銅墊以外之區域上的錫層;去除未受該光阻層遮蔽之錫層及金屬薄層;以及,去除該光阻層。上述錫層之鍍法可選自電鍍、無電電鍍、蒸鍍、濺鍍或印刷。